图：ASML的EUV级光刻机，可以生产精密至7nm以下的晶片

　　美国开打科技战，不择手段针对中国。其中在晶片（芯片）业，美国多次阻挠全球顶尖的晶片生产器材—荷兰ASML的晶片光刻机出口到中国。

　　光刻机为何对中国的晶片产业那麼重要？荷兰ASML的光刻机有什麼领先优势？中国如何发奋图强，突破重重困境，製造领先全球的“中国芯”？

　　中国有不少Fabless晶片设计公司，例如华为，而其晶片设计水平亦已达全球领先之列。虽然中国企业有能力设计出优良的晶片，但要将设计变成现实产品，还需靠晶片厂代工生产。早前华为依靠台积电生产晶片，但台积电在美方的压力下，不敢接华为的订单，余下有能力生产华为设计晶片的，只有韩国的三星，最后三星同样不接华为的订单。

　　虽然全球有不少晶片生产商，但只有台积电以及三星有能力生产精密至7nm的晶片，其他厂商全都只能生产较粗阔、14nm或以上製程，即精密度较低的晶片。至於内地的厂商，较领先的中芯国际，最理想亦只能在短期内生产14nm的晶片，而且所用的器材亦非国产，而是ASML一台技术较次的DUV级光刻机。

　　产业中最核心工艺

　　光刻机，就是将晶片（芯片）设计线路，利用强光刻画在晶片上，情况有如将打好的文件列印出来，因此，光刻机的精细度，就定义了最终成品的精细度，可说是整个产业中最核心的工艺，而这亦佔整个生产过程近一半的时间。目前全球主要有三间生产光刻机的公司，以往在此技术领先的尼康（Nikon）以及佳能（Canon），现在都大幅落后。ASML能够一枝独秀，因为其EUV级的光刻机可以生产精细度在7nm以下的晶片，而DUV级光刻机配合厂商的技术，最精细亦可生产7nm的晶片。因此，要做最领先、最精细的晶片，其中一个必备的条件，就是要拥有ASML的光刻机。中国目前自行研发的光刻机，还停留在90nm製程，某程度上，距离目前的7nm製程落后约30年。

　　光刻机供应商尼康和佳能均有生产相机，而事实上，光刻机与光学技术有莫大关係。一台ASML的光刻机重近180公吨，由约10万个零件组成，体积接近一台双层巴士。这台被称为“集全球科技於大成”的机器，ASML与多达5000家不同技术的供应商合作，例如在光学技术上，ASML使用德国蔡司的镜片，而AMSL为确保供应关係，更收购了蔡司25%的股权；紫外光源系统则由美国Cymber提供，同样被ASML收购，其技术为利用高能量令金属放出辐射，产生紫外光。此外，ASML的供应商还包括多家在个别技术全球领先的企业，例如生产光罩的Photronics、生产準分子激光源器材的日本小松制作所，以及美国的Sparton、Brooks Automation，基本上接近90%的技术都是外购。正正由於ASML收购了美国的Cymber等美企，因此亦要向美政府保证要向美企採购超过五成的零部件，并接受审查，因而令ASML向中国出售光刻机的行为受到重大的规範。

　　顶级机每年只产30台

　　正因为ASML能“集百家之大成”，因此他们才能生产最优秀的光刻机，并在最精密的光刻机市场上，有全面垄断优势，其利润亦十分高，2019年的收入为132.4亿美元，淨利润为29亿美元。一台ASML的顶级光刻机，售价是数亿欧元，而且每年产量只有约30台。单单在打磨镜片上，中国在民用相机镜头都未能有位居前列的供应商，反观尼康、佳能、蔡司都是著名的相机镜头厂商。至於其他供应商，由於ASML所使用的顶级供应商，不少都是美国公司，因此中国公司要找他们供货，有可能因为贸易战而出现断货风险。

　　目前中国只有一家较为领先的光刻机生产商，叫上海微电子，但该公司暂只能生产90nm製程的光刻机，并预期在2021年，有望交付首台28nm製程的光刻机，而28nm是至少约八年前的技术。上海微电子目前寄望能与内地部分具领先科技的技术企业，例如长春国科精密、北京科益虹源、浙江启尔机电、北京华卓精科等，同时与中科院及大学等支持的企业合作，推出更高精密度的光刻机，从而做到利用内地自主研製技术下，能生产贴近7nm的光刻机。